Site Characterization and Aggregation of Implanted Atoms in Materials
A. Perez · R. Coussement
ธ.ค. 2012 · NATO Science Series B หนังสือเล่มที่ 47 · Springer Science & Business Media
eBook
520
หน้า
reportคะแนนและรีวิวไม่ได้รับการตรวจสอบยืนยัน ดูข้อมูลเพิ่มเติม
เกี่ยวกับ eBook เล่มนี้
Explosive developments in microelectronics, interest in nuclear metallurgy, and widespread applications in surface science have all produced many advances in the field of ion implantation. The research activity has become so intensive and so broad that the field has become divided into many specialized subfields. An Advanced Study Institute, covering the basic and common phenomena of aggregation, seems opportune for initiating interested scientists and engineers into these various active subfields since aggregation usually follows ion implantation. As a consequence, Drs. Perez, Coussement, Marest, Cachard and I submitted such a pro posal to the Scientific Affairs Division of NATO, the approval of which resulted in the present volume. For the physicist studying nuclear hyperfine interactions, the consequences of aggregation of implanted atoms, even at low doses, need to be taken into account if the results are to be correctly interpreted. For materials scientists and device engineers, under standing aggregation mechanisms and methods of control is clearly essential in the tailoring of the end products.
ให้คะแนน eBook นี้
แสดงความเห็นของคุณให้เรารับรู้
ข้อมูลในการอ่าน
สมาร์ทโฟนและแท็บเล็ต
ติดตั้งแอป Google Play Books สำหรับ Android และ iPad/iPhone แอปจะซิงค์โดยอัตโนมัติกับบัญชีของคุณ และช่วยให้คุณอ่านแบบออนไลน์หรือออฟไลน์ได้ทุกที่
แล็ปท็อปและคอมพิวเตอร์
คุณฟังหนังสือเสียงที่ซื้อจาก Google Play โดยใช้เว็บเบราว์เซอร์ในคอมพิวเตอร์ได้
eReader และอุปกรณ์อื่นๆ
หากต้องการอ่านบนอุปกรณ์ e-ink เช่น Kobo eReader คุณจะต้องดาวน์โหลดและโอนไฟล์ไปยังอุปกรณ์ของคุณ โปรดทำตามวิธีการอย่างละเอียดในศูนย์ช่วยเหลือเพื่อโอนไฟล์ไปยัง eReader ที่รองรับ
