Metal Impurities in Silicon-Device Fabrication
Klaus Graff
2013. g. marts · Springer Series in Materials Science 24. grāmata · Springer Science & Business Media
E-grāmata
216
Lappuses
reportAtsauksmes un vērtējumi nav pārbaudīti. Uzzināt vairāk
Par šo e-grāmatu
Metal Impurities in Silicon-Device Fabrication treats the transition-metal impurities generated during silicon sample and device fabrication. The different mechanisms responsible for contamination are discussed, and a survey given of their impact on device performance. The specific properties of main and rare impurities in silicon are examined, as well as the detection methods and requirements in modern technology. Finally, impurity gettering is studied along with modern techniques to determine gettering efficiency. In all of these subjects, reliable and up-to-date data are presented. The monograph provides a thorough review of the results of recent scientific investigations, as well as of the relevant data and properties of the various metal impurities in silicon.
Novērtējiet šo e-grāmatu
Izsakiet savu viedokli!
Informācija lasīšanai
Viedtālruņi un planšetdatori
Instalējiet lietotni Google Play grāmatas Android ierīcēm un iPad planšetdatoriem/iPhone tālruņiem. Lietotne tiks automātiski sinhronizēta ar jūsu kontu un ļaus lasīt saturu tiešsaistē vai bezsaistē neatkarīgi no jūsu atrašanās vietas.
Klēpjdatori un galddatori
Varat klausīties pakalpojumā Google Play iegādātās audiogrāmatas, izmantojot datora tīmekļa pārlūkprogrammu.
E-lasītāji un citas ierīces
Lai lasītu grāmatas tādās elektroniskās tintes ierīcēs kā Kobo e-lasītāji, nepieciešams lejupielādēt failu un pārsūtīt to uz savu ierīci. Izpildiet palīdzības centrā sniegtos detalizētos norādījumus, lai pārsūtītu failus uz atbalstītiem e-lasītājiem.
